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家登面對地緣政治採取全球化布局　可望迎轉單效益

家登面對地緣政治採取全球化布局　可望迎轉單效益

【記者蕭文康／台北報導】半導體設備暨材料廠家登精密（3680）面對全球政局劇烈變化，預期將加劇全球的貿易壁壘及衝突，家登強調，公司提早布局生產基地，伴隨關鍵客戶在全球擴廠，包括在美國有倉儲及專責業務，研發以及技術服務團隊，2025年在日本久留米有建廠規劃，在大中華地區現有昆山廠及重慶廠兩座生產基地已穩定投產，產能充足並符合全球關鍵客戶在地供應的需求，未來可以大幅度的減緩地緣政治帶來的風險，並可迎接轉單效益。
2024/11/08 10:27
財經 產業脈動
中國工信部宣布實現國產DUV曝光機　可生產8奈米及以下晶片

中國工信部宣布實現國產DUV曝光機　可生產8奈米及以下晶片

【記者陳力維／綜合報導】中國工信部近日公布一項通知顯示，中國已取得重大技術突破，研發出深紫外光曝光機（DUV），可生產8奈米及以下晶片，目前正在推廣應用。中國工業和信息化部官網9日公布「首台（套）重大技術裝備推廣應用指導目錄（2024年版）」的通知，下發地方要求加強產業、財政、金融、科技等國家支持政策的協同。
2024/09/15 10:30
國際
ASML High NA EUV售價高達124億！台積電都覺得貴　一文看懂最新製程細節

ASML High NA EUV售價高達124億！台積電都覺得貴　一文看懂最新製程細節

【記者蕭文康／台北報導】AI驅動半導體需求，全球晶片微影技術領導廠商艾司摩爾 （ASML ）於 SEMICON TAIWAN 2024分享新一代高數值孔徑極紫外光（High NA EUV）微影技術，可在相同單位面積的晶片高2.9倍電晶體密度、成相對比提高4成、每小時可曝光185片晶圓及可大幅降低整體生產所需電力，簡而言之，ASML強調，High NA EUV 將協助晶片製造商簡化製造工序、提高產能，並降低每片晶圓生產的能耗。
2024/09/06 15:44
財經 科技新知
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