一台要價125億被嫌貴！ASML證實：台積電今年將拿到high-NA EUV
【于倩若／綜合報導】艾司摩爾（ASML）今年將向台積電交付價值3.5億歐元（約125億台幣）的晶片機「high-NA EUV」（高數值孔徑極紫外光曝光機）。台積電先前曾表示ASML的新機太貴。而英特爾已經收到了第1台high-NA EUV機台。
據《彭博》報導，ASML今年將把新的晶片製造機出貨給台積電。據該公司發言人Monique Mols稱，ASML的2個最大客戶台積電和英特爾，將在今年底前收到high-NA EUV，這是ASML財務長Roger Dassen在最近一次電話會議中，向分析師透露的訊息。
英特爾已經下了最新high-NA EUV機台的訂單，並於去年12月底，將第1台high-NA EUV運送到美國奧勒岡州的工廠。
目前尚不清楚ASML最大EUV客戶台積電何時會收到這款設備。台積電一位代表表示，正與其供應商密切合作，並拒絕進一步置評。
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要價3.5億歐元 重量等於2架空巴A320
ASML的新機台可用線寬僅8奈米的線壓印半導體，比上一代小1.7倍，並將用於生產為AI應用和先進消費性電子產品提供動力的晶片。這種機器每台要價3.5億歐元，重量相當於2架空中巴士A320。ASML是世上唯一一家EUV曝光技術製造商。
台積電對該機器的價格表示擔憂，該公司資深副總經理張曉強5月在阿姆斯特丹表示：「我喜歡high-NA EUV的性能，但我不喜歡它的標價。」他表示，台積電所謂的A16節點技術，將於2026年底推出，無需使用ASML的high-NA EUV，可以繼續依賴台積電較舊的EUV設備。
儘管如此，台積電一直是high-NA EUV計劃的積極參與者。Janardan Menon等Jefferies分析師表示，他們預期台積電將在2028年在A14節點使用high-NA。
Jefferies分析師表示，今年剩餘3個季度，ASML的平均訂單量可能落在57億歐元左右，推動2025年營收達到400億歐元。
high-NA EUV（高數值孔徑極紫外光曝光機）報你知
由ASML獨家掌控關鍵技術，可透過波長極小的光來列印微晶片，在晶圓上刻出精細電路圖，預期台積電將在2028年在A14節點（等於1.4奈米）使用high-NA。
數值孔徑（NA）從0.33增大為0.55，具備成像更清晰、大幅提高產能、簡化製造流程提高生產效率、提高晶片性能等優點。
此種設備對2奈米以下製程極為關鍵，是台積電、英特爾、三星3大晶圓廠，搶進2奈米以下先進製程的必備武器。
